RATOC
RATOCトップ3D医療画像解析アプリケーション3D産業画像解析アプリケーション画像処理ソフト半導体ソフト耳石解析ソフト3D模型製作デモルームサービスご案内ソフトレンタルサービスご案内解析サービスクラウドサービス採用情報ユーザーサポート
次世代ULSIプロセスに対応した高速マスクパターン演算

          半導体




              本ソフトは次世代ULSIプロセスに対応した高速マスク
              パターン 演算を行います。 広範囲な業務に適用可能な
              マスク パターン演算機能を持っています。

              広範囲なマスク図形演算
    図形論理演算      :  層内図形、層間図形に対し
                             2次元図形演算
                             {or, and, not, sub}を行います。
    リサイジング処理  :  指定寸法の太らせ(Dilation)
                          やせらせ (Erosion) 処理を行います。
                              微小突起、スリット、陥没、ねじれの
                              除去を自動的に行います。
    反転図形生成      :  ネガ型レジスト用マスクパターン生成
                             を行います。
    位相図形抽出      :  層間図形の包含関係
                            (=内部図形、外部図形、接触図形他)
                             によってパターン抽出を行います。
    図形抽出          :  層間図形の包含関係
                            (=内部図形、外部図形、接触図形 他)
                             によってパターン抽出を行います。

 論理演算    
      

 リサイジング 
      




マスク工程補正後EBファイルとマスク図形元ファイルを比較し、差分図形を抽出します。



 マスク工程用補正前のGDSファイルまたはEBファイルの図形と
補正後のEBファイルの図形を比較して差分図形を出力します。
 Sizing前後の比較の場合、CARATのサイズ補正アルゴリズム
を用いて高速にサイズ補正を行い、他の方法によるSizing後
図形との差分図形を検出します。
 同一サイズ補正アルゴリズムを用いた比較の場合に生じる
同一不正図形の差分の見逃しの可能性は、CARATによる比較
では生じません。
 OPC前後の比較の場合、OPCによるプラス補正図形
(増加部分の図形)、マイナス補正図形(減少部分の図形)を
それぞれ抽出します。
プラス補正図形、マイナス補正図形はぞれぞれ指定された
異なるレイヤーに出力します。
 マスク工程用補正前のGDSファイルまたはEBファイルの図形
と補正後のEBファイルの図形を比較して差分図形を出力します。
 Sizing前後の比較の場合、CARATのサイズ補正アルゴリズム
を用いて高速にサイズ補正を行い、他の方法によるSizing後
図形との差分図形を検出します。
 同一サイズ補正アルゴリズムを用いた比較の場合に生じる同一
不正図形の差分の見逃しの可能性は、CARATによる比較では
生じません。
 OPC前後の比較の場合、OPCによるプラス補正図形
                      (増加部分の図形)、
マイナス補正図形     (減少部分の図形)をそれぞれ抽出します。
プラス補正図形、マイナス補正図形はぞれぞれ指定された異なる
レイヤーに出力します。
      


      



 
OPC前とOPC後の図形を比較し、      Sizing前の図形をCARATの
それらの差分図形を抽出します。        アルゴリズムを用いて
差分図形はOPCによるプラス             サイズ補正を行い、
補正図形とマイナス補正図形              Sizing後の図形との差分図形を
を異なるレイヤーに出力します。          検出します。
                                                      差分図形は、擬似エラー図形
                                                     (鋭角カットによる許容差分等)
                                                        と真のエラー図形(許容差分外の
                                                        不正図形)とに分類し
                                                        て出力します。真のエラー図形、
                                                        擬似エラー図形はそれぞれ指定
                                                        された異なるレイヤーに出力します。
                                                        擬似エラー図形は出力しない
                                                         ように指定することもできます。



                  特徴

階層処理            GDSU・OASISファイルで記述されている
                            セル階層構造を保持して演算を行います。

演算最適化処理     セル階層構造中の相似パターンを自動抽出し、
                            演算回数を最小化します。


              図形表現最適化

   フラット化と階層生成   :   セル階層構造をフラットに展開、
                                   指定領域のセル化、
                                   図形表現の最適化による自動セル
                                   階層化を行います。
 入力GDS  OASIS    

 

 最適化後  GDS  OASIS 
 新たにセルT-1,T-2が生成され、1-1は複数セルに分解される。 

 


図形のセル化、グループのセル化、アレイ表現最適化によりGDSファイルを圧縮します。
     

 CARATはレイアウト設計後のGDSファイル内の
  図形表現を圧縮することによって最適化します。
 ギガバイトの大規模データファイルでも、
  CARATの最適化によって元ファイルの数分の
  1から10分の1に圧縮されるので、マスク
  パターン生成の前処理として適しています。
特徴機能
1.図形のセル化
   同一形状の図形を高速に認識してセル化
      します。
     同一形状の図形を同一セル参照に置換する
     ことにより、図形データ定義数を削減します。
2.近傍図形部のグループ化及びセル化
   近傍図形やセル参照をグループ化しセル化します。
    同一グループを同一セル参照に置換すること
     によりセル参照データ数を削減します。
     近傍の図形グループがセルとなることにより
     マスクパターン生成の図形処理を容易にします。
3.アレイ表現最適化
   セル参照のアレイ化、アレイ表現の合成に
      よりセル参照データ数を削減します。
4.並列処理
   50GB以上の大規模ファイルでも処理可能。
      セル毎、マスク分割、領域ごとに分散処理
      が可能です。



マスク図形の線幅、回路間隔を測定します。



 接触する図形はORをとり測定、斜め線でも最短 線幅、線間距離を測定します。




  

 JobDeckファイルで指定された複数 のEBファイルを入力し、マスク上の 測定点のパターン線幅、パターン間の 線間距離を測定します。  測定結果はテキストファイルに出力 するとともに、測定点周囲のパターン 図形を画像ファイルに出力します。


入力
サポートEBフォーマット(予定)
   Mebesフォーマット
   Jeol52フォーマット
   HLフォーマット
   VSBフォーマットJobDeckファイル
      RESIST種別

出力
     測定結果
    線幅/線間距離
    測定方向角度
     図形内外種別
     測定点周囲のパターン図形画像
    (広視野像、拡大像の2種類)出力